鍍膜靶材：國內(nèi)發(fā)展迎頭趕上

　　鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)，在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。集成電路、平板顯示是用靶材主要應(yīng)用領(lǐng)域，其濺射產(chǎn)品主要包括電極互連線膜、電容器電極膜、接觸薄膜、光盤掩膜、阻擋層薄膜、電阻薄膜等。國際上高端濺射靶材的主要生產(chǎn)商有JX/Nikko、Praxair/MRC、Honeywell Electronic Materials、Tosoh SMD等。

　　平板顯示用高純金屬靶材市場主要被奧地利攀時股份有限公司(Plansee)、德國世泰科(H.C. Starck)和日本日立金屬株式會社(Hitach metal)、住友化學(xué)集團(Sumitomo)所壟斷，其中奧地利攀時和德國世泰科是全球大的鉬靶供應(yīng)商。ITO高端靶材被日本礦業(yè)有限公司、日本三井金屬礦業(yè)有限公司、日本東曹化工有限公司、韓國三星等少數(shù)公司所壟斷。日本礦業(yè)和三井礦業(yè)幾乎占據(jù)高端TFT-LCD市場用ITO靶材的全部份額和大部分的觸摸屏面板市場，每家年供應(yīng)量達到600t以上。

　　我國是世界上薄膜濺射靶材的大需求地區(qū)，國內(nèi)靶材材料發(fā)展速度較快。

　　國內(nèi)企業(yè)氧化銦錫(ITO)靶材技術(shù)自主研發(fā)進展緩慢，受技術(shù)限制主要供應(yīng)低端市場;而高端TFT-LCD、觸摸屏用ITO靶材幾乎全部從日本和韓國進口。近年來國內(nèi)企業(yè)加快了ITO靶材的技術(shù)研發(fā)和引進，在建有多個高端ITO靶材國產(chǎn)化項目